El proceso usa una variante sobre la misma técnica de entrada high-k/metal que sustituye algo del silicio de los transistores con materiales de más eficiencia y más frescos para incluir más componentes en un único chip e incrementar el rendimiento. (vídeo exclusivo en el interior)
Una mejora, conocida como “high-k/gate-first”, es además más fácil de producir. Concentrándose primero en los componentes más avanzados, permite a las compañías asociadas diseñar procesadores más pequeños, más rápidos sin necesidad de aumentar la complejidad del chip desde el comienzo.
Fuente: MacNN