IBM hace un importante avance en la litografía para creación de chips

IBM ha desarrollado una litografía para la fabricación de chips que permitirá la producción de microprocesadores ultra pequeños. Al parecer, los investigadores de la compañía han creado una variante de inmersión de alto índice de la litografía óptica ultravioleta con la que pueden crearse estructuras de chip de 29,9 nanómetros, en lugar de los 32 nanómetros que conforman la barrera que la litografía óptica que se utiliza actualmente no es capaz de traspasar.

La mayor parte de los circuitos que se comercializan actualmente incluyen estructuras de 90 nanómetros, y próximamente empezará a extenderse el uso de los dispositivos de entre 65 y 45 nanómetros.

El nuevo método intenta resolver un problema clave para la industria de los semiconductores, que está constantemente intentando fabricar microchips más potentes haciendo transistores más pequeños y ensartando más de ellos en una única pieza de sílice.

IBM ha llevado más allá la litografía óptica con nuevas técnicas de inmersión en las que los láseres pasan a través de un líquido con un alto índice refractario. Esto crea un foco más agudizado y permite la creación de estructuras más pequeñas.

Esta tecnología podría imponerse a los métodos de rayos X blandos y espejos, que todavía no han demostrado su eficacia, en la carrera por lograr chips de 22 nm.

Fuente: Macsimum News.

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